甲烷

  ‌一、基础纯度要求‌

  ≥99.999%（5N级）‌

  基础纯度需满足高纯气体国标（GB/T 387-2017），甲烷体积分数≥99.999%。

  超高纯级（≥99.9995%）‌

  用于半导体光刻胶清洗、非晶硅沉积等尖端领域，需进一步降低痕量杂质。

  ‌二、关键杂质限值‌

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  注‌：部分高端场景（如半导体沉积）要求金属离子（Fe、Na等）≤1 ppb，颗粒物（≥0.1μm）≤0.1个/mL，需通过离子色谱及激光颗粒计数器验证。

  ‌三、应用场景与指标关联性‌

  半导体制造‌

  化学气相沉积（CVD）‌：用于生长非晶硅薄膜，纯度不足会导致晶体管性能衰减，需控制乙烷≤1 ppm、水分≤1 ppm。

  等离子刻蚀‌：参与硅晶圆图形化，金属离子超标会引发电路短路。

  光伏与传感器‌

  太阳能电池非晶硅层沉积，杂质氮/氧含量过高会降低光电转换效率。

  校准气体‌

  作为仪器标定基准气时，需总杂质≤10 ppm以保证数据可靠性。

  ‌四、包装与储运规范‌

  包装‌：40L特种钢瓶充装，内壁钝化处理防止杂质析出。

  储运‌：避光储存于阴凉通风处，温度≤30℃，避免与氧化剂接触。

  ‌五、检测标准依据‌

  纯度与杂质‌：执行GB/T 387-2017《高纯甲烷》。

  痕量分析‌：参考SEMI标准（如金属离子检测采用ICP-MS）。

  电子级甲烷的纯度与杂质控制直接关联终端产品良率，尤其在28nm以下先进制程中，需严格满足99.9995%级指标。